Исследование гальваномагнитных свойств приповерхностного слоя диффузионно-легированного кремния
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
160 0
SM ISO690:2012
ИСАЕВ, М., НОРОВ, Ш., МАЖИДОВ, А.. Исследование гальваномагнитных свойств приповерхностного слоя диффузионно-легированного кремния. In: Электронная обработка материалов, 2006, nr. 6(42), pp. 80-83. ISSN 0013-5739.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Электронная обработка материалов
Numărul 6(42) / 2006 / ISSN 0013-5739 /ISSNe 2345-1718

Исследование гальваномагнитных свойств приповерхностного слоя диффузионно-легированного кремния


Pag. 80-83

Исаев М., Норов Ш., Мажидов А.
 
Ташкентский государственный технический университет имени А.Р.Беруни
 
 
Disponibil în IBN: 14 martie 2023


Rezumat

Compensated silicon Si<B,Mn>, Si<B,Co>, Si<B,Cr> with different compensation degrel was received using diffusion doping with Mn, Co and Cr. Surface and volume conductivity was investigated so as concentration and charge current mobility, their distribution profile. It was stated that irrespective of the original silicon conductivity type the conductivity of presurface layer with definite thick was hole-type with carriers concentration ^ 1021cm-3 . Contradiction between hole properties Mn, Co, Cr and the hole character of presurface layer conductivity, so as between value of solubility Mn, Co, Cr in silicon and concentration