Исследование влияния условий формирования на свойства тонких пленок молибдена, нанесенных магнетронным распылением
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
176 0
SM ISO690:2012
АНУФРИЕВ, Л., ТУРЦЕВИЧ, А., ГЛУХМАНЧУК, В., СОЛОВЬЕВ, Я., БАРАНОВ, В.. Исследование влияния условий формирования на свойства тонких пленок молибдена, нанесенных магнетронным распылением. In: Электронная обработка материалов, 2004, nr. 3(40), pp. 70-74. ISSN 0013-5739.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Электронная обработка материалов
Numărul 3(40) / 2004 / ISSN 0013-5739 /ISSNe 2345-1718

Исследование влияния условий формирования на свойства тонких пленок молибдена, нанесенных магнетронным распылением


Pag. 70-74

Ануфриев Л.1, Турцевич А.1, Глухманчук В.1, Соловьев Я.1, Баранов В.2
 
1 Завод «Транзистор» НПО «Интеграл»,
2 Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
 
 
Disponibil în IBN: 3 mai 2023


Rezumat

The study of the basic electrophysical parameters of thin Mo films obtained by magnetron sputtering depending on the conditions of deposition was made. It is shown that the films obtained at deposition rate about 4 nm/s and at less than 1 Pa Argon pressure to the substrates heated up to temperature over 450C have the best reproducibility.